膜付Wafer

ウェーハ上に成膜加工されたものを膜付ウェーハ(成膜ウェーハ)と称します。
当社では熱酸化膜(SiO2)、窒化膜(LP-SiN)、TEOS膜、金属膜(W, Ti/TiN, Al, Cu)、レジスト、ポリシリコン膜などの多種類の膜付き製品を取り扱っております。

200MM/300MM酸化膜ウェーハ

200MM 300MM
酸化膜厚さ 500±25nm 500±25nm
酸化膜厚さのバラつき
(1枚のウェーハに対して)
< 3% < 3%
酸化膜厚さのバラつき
(複数のウェーハに対して)
< 3% < 3%
SPEC 0.2μm≦30ea 0.20um≤30ea
直径(mm) 200±0.2mm  300±0.2mm
Type P P
結晶方位 <100>±1 <100>±1
ノッチ方位 <110>±1 <110>±1
抵抗値(Ω・cm) 1-100 1-100
厚み(μm) 725±25 775±25
TTV(μm) ≦25 ≦10
BOW(μm) ≦40 ≦40
WARP(μm) ≦40 ≦40
表面不純物 ≦5.0E 10 atom/cm2 <1 E10 Atoms/cm2

下記以外の膜種、膜厚、膜構成についてはお問い合わせ下さい。

 

事業内容一覧